Thiết bị phát triển keo đường trước

Có thể đàm phánCập nhật vào02/15

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Thiết bị phát triển keo trước đây của Shengmei Thượng Hải hỗ trợ quy trình Arf, trong tương lai có thể được mở rộng sang quy trình in li-line, KrF và các quy trình khác, có thể đáp ứng nhu cầu quy trình in li-tô của các nhà sản xuất mạch tích hợp bán dẫn.

Chi tiết sản phẩm

Thiết bị phát triển keo đường trước

Lợi thế chính

Tự bảo vệ cấu trúc chéo lập thể (số: 9), cải thiện tốc độ sản lượng thiết bị WPH

Sử dụng thiết kế độc lập để tối ưu hóa phân phối luồng không khí bên trong toàn bộ máy và giảm ô nhiễm hạt

Kiểm soát chính xác lượng keo, giảm tiêu thụ keo

Có chức năng hút lại nhiều lần, có thể ngăn chặn hiệu quả kết tinh miệng vòi phun

Buồng được trang bị thiết bị xả độc lập, có thể cải thiện tính đồng nhất của độ dày màng in thạch cao và giảm Wet Particle

Tấm nhiệt độ chính xác cao được trang bị điều khiển đa phân vùng tự phát triển

Phần mềm điều khiển tự phát triển có thể tối ưu hóa đường dẫn truyền wafer và rút ngắn thời gian truyền

Mang chức năng phát hiện lỗi, có thể phát hiện vấn đề kịp thời

Sử dụng chức năng auto-teaching để nâng cao hiệu quả

Hỗ trợ giao diện máy in thạch bản chính

Tính năng&Thông số kỹ thuật

Có thể được sử dụng để làm sạch wafer 300mm

Có thể cấu hình 4 Loadport, lên đến 8 khoang tráng và 8 khoang phát triển

Có thể mở rộng hỗ trợ 12 khoang keo và 12 khoang phát triển, công suất wafer mỗi giờ có thể đạt 300 miếng;

Nhiệt độ buồng: 23 ° C ± 0,1 ° C, phạm vi nướng từ 50 ° C đến 250 ° C

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị