Ưu điểm của thiết bị làm sạch plasma

Có thể đàm phánCập nhật vào05/06

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Ưu điểm của thiết bị làm sạch plasma chiếm diện tích nhỏ; Tốc độ phản ứng nhanh, hiệu quả xử lý tốt của máy lọc khí thải plasma, máy lọc khí thải plasma có thể phân hủy các chất có mùi hôi *; Khởi động, dừng lại rất nhanh, tức là mở là dùng, không bị ảnh hưởng bởi nhiệt độ, thao tác đơn giản; Trong quá trình phản ứng chỉ cần dùng điện, không cần thêm thuốc phụ trợ và chất độn khác.

Chi tiết sản phẩm

Ưu điểm của thiết bị làm sạch plasmaNguyên tắc làm sạch:

Nguyên lý xử lý chất gây ô nhiễm của công nghệ plasma nhiệt độ thấp là: dưới tác động của điện trường bổ sung, một lượng lớn các electron mang năng lượng được tạo ra bởi phóng điện môi trường bắn phá các phân tử ô nhiễm, làm cho chúng ion hóa, phân ly và kích thích, sau đó gây ra một loạt các phản ứng vật lý, hóa học phức tạp, làm cho các chất ô nhiễm phần lớn phức tạp chuyển thành các chất an toàn phân tử nhỏ đơn giản, hoặc làm cho các chất độc hại độc hại chuyển thành các chất không độc hại hoặc độc hại thấp, do đó làm cho các chất gây ô nhiễm có thể bị phân hủy và loại bỏ. Do năng lượng trung bình của electron được tạo ra sau khi ion hóa là 10 ev, điều kiện phản ứng kiểm soát thích hợp có thể đạt được phản ứng hóa học nói chung khó đạt được hoặc chậm trở nên rất nhanh. Là một công nghệ cao có lợi thế tiềm năng trong lĩnh vực xử lý ô nhiễm môi trường, Plasma nhận được sự quan tâm cao của cộng đồng các ngành liên quan trong và ngoài nước.

Ưu điểm của thiết bị làm sạch plasmaThận trọng khi sử dụng:

Khi điều kiện được đáp ứng, hiệu quả làm sạch của thanh lọc quang phân UV có thể đạt hơn 99,9%.

Chất có mùi hôi có thể bị nứt hay không phụ thuộc vào việc liên kết hóa học của nó có năng lượng thấp hơn photon UV được cung cấp hay không.

Tổng công suất của các photon UV cung cấp không đủ hoặc hàm lượng oxy không đủ, sẽ tạo ra một số sản phẩm phụ trung gian do nứt hoặc oxy hóa không *, do đó ảnh hưởng đến hiệu quả thanh lọc. Đối với các chất có mùi hôi hữu cơ nồng độ cao của các phân tử lớn thể hiện khá rõ ràng.

Thời gian phản ứng nứt rất ngắn (<0,01s), thời gian phản ứng oxy hóa (xem phản ứng ④) cần 2-3s.

5, ổn định lâu dài và hiệu quả cao của thanh lọc quang phân UV, đòi hỏi nhiệt độ phản ứng<70 ℃, lượng bụi<100mg/m³, độ ẩm tương đối<99%.

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị